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第267 制程线路之争 下（第1页）

新世纪之后，电子束直写技术在芯片领域的应用大部分局限于科研和掩膜领域。

在电子芯片日益复杂的未来，加工一枚芯片的平均时间已经增长到了七个小时，如果芯片构造特别复杂加工一枚芯片的时间甚至高达六、七十个小时。

不过在九十年代，还有企业或研发机构试图用多光速同时加工的方式来突破电子束生产效率低下的桎梏。

比如通过多光源和多透镜使得同时工作的电子束高达上千束。

就算上千束电子束同时工作，在九十年代芯片结构比较简单的时代也只是堪堪追上曝光式光刻机的生产效率而已，不过多光束电子束光刻机三倍于曝光式光刻机的昂贵成本依旧打不开光刻机的主流市场。

当然，由于可以直接加工晶圆的缘故，电子束直写技术是加工曝光式光刻机掩膜模板的最佳技术。

王欣、刘飞扬、聂晓天三人一人数句的把光刻机市场的技术前景和大致的阵营和梁远一一的介绍了一遍。

最后，王欣总结着说道:“大少也知道，真论起研发力量我们和主流大厂肯定没法比，港基集电顺利发展到现在，有大半发展机遇是大少抓住国内特殊国情，利用时间差成品差的战略在撑着，光刻机是产线最核心的设备，多路研发就算我们有钱，人也是不够的。”

王欣停顿了一下，继续说道:“我们内部已经快要达成共识，大部分人都赞同走193nm光源的技术路线，一个原因是193nm光源应用很广，在医疗、工业、科教等领域都有着很广泛的应用，可以大幅度的降低研发成本，还一个原因就是从产业前沿传来的消息，193nm之后的光源研发很不顺利，有大概率会卡住几年，对于我们这种落后一方来说，这个机会十分的难得，有追上国际一线水准的可能。”

“大少，电子束直写技术由于在线宽上的巨大优势，几乎比主流曝光技术先进四到五代，这就直接导致了在生产掩膜模板这个电子束直写技术最大的应用领域中，完全不必要使用最先进的技术，线宽不用说落后五代，哪怕是四代在国际上也是烂大街的东西，只要有钱随便买～～”

刘飞扬十分了解梁远的心思，直接说明了这玩意压根就没人卡脖子。

“大少拉出来的战线太长，我们又没大少的天赋只能尽力收束力量，把研发力量集中到一个领域～。”

聂晓天和梁远混在一起的时间最长，在梁远的影响下说话时没什么顾虑，把理由说得十分直白。

电子产业，若是说终端消费品梁远还能底气十足的说到说到，若是说工业化大生产，除了未来流传很广的一些名词，其他的梁远是一窍不通。

光刻机这玩意就属于梁远一窍不通的那种。

被互联网时代洗礼过的网民群体两极分化的厉害，一部分人在知识面广博之后认为自己天上地下我最牛逼，不管啥话题都敢装专家，还有一部分却被知识的深度所征服，清醒的认识到知道得越多自己越无知。

梁远就是属于后者，因此除了决定方向性的大战略，梁远早就彻底放手港基集电的日常管理，自然对港基集电内部这些关于技术方向的站队问题不算了解。

梁远听三个技术大佬说完，才算对光刻机领域有了较为详细的了解。

“那，外边那位该怎么应付？”梁远问道。

梁远觉得，这年头能在国内搞电子产业的都是人才，就这么放弃了心里总有点不得劲。

“改行呗～”

“我们和GE交换来电子束物理气相沉积技术的前前后后，包括我在内很多人可是站队电子束直写技术的，后来还不是都改行了。”

王欣笑着说道。

国内叫领导或长官意志，海外叫权威意志或资本意志，科研哪可能一点外界影响都不受，梁远喜欢逮到一个有前景的技术往死里深挖，早就在远嘉高管中人所共知。

受梁远这种思维影响，和GE交换技术前后电子束直写技术在港基集电内部一度成了研发光刻机的网红技术。